Methode und Gerät zum Entwurf einer Elektronenstrahlmaske

EP1191399 Art B1 30. November 2005

Anmelder: NEC Electronics Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1191399
Aktenzeichen: EP01122121
Anmeldetag: 14. September 2001
Veröffentlichung: 30. November 2005
Erteilung: 30. November 2005
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/16H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: NEC Electronics Corporation
NEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

19.509 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von