Verfahren zur Reduzierung von Plasmaverusachten Schäden
EP1191569
Art A3
9. Februar 2005
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1191569
- Aktenzeichen
- EP01119259
- Anmeldetag
- 9. August 2001
- Veröffentlichung
- 9. Februar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C16/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.783 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
Patente gesamt
32
Fachgebiete
23
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Schwerpunkte