Halbleiter-Speicherbauteil und Verfahren zur Herstellung desselben

EP1191596 Art A3 8. Oktober 2008

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1191596
Aktenzeichen
EP01120769
Anmeldetag
7. September 2001
Veröffentlichung
8. Oktober 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L27/108
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kabushiki Kaisha Toshiba
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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