Plasmabehandlung von durch Thermische Cvd aus Tantalhalogenid-Vorläufern Erhaltenen Tan Schichten
EP1192292
Art B1
13. August 2003
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1192292
- Aktenzeichen
- EP00928417
- Anmeldetag
- 26. April 2000
- Veröffentlichung
- 13. August 2003
- Erteilung
- 13. August 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/34H01L21/285
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Reddie & Grose wurde 1907 gegründet und ist neben London und Cambridge auch in München und Den Haag vertreten. Sie gilt laut Fachpresse als besonders versiert im Umgang mit komplexen technischen Fragestellungen vor EPA und UPC.
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