Herstellung Integrierter Ta und Tanx Filme mittels Cvd aus Tantalumhalogenid-Vorläufern
EP1192293
Art B1
24. Dezember 2008
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1192293
- Aktenzeichen
- EP00930148
- Anmeldetag
- 25. April 2000
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2008
- Erteilung
- 24. Dezember 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/34H01L21/285C23C16/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Reddie & Grose LLP
Reddie & Grose wurde 1907 gegründet und ist neben London und Cambridge auch in München und Den Haag vertreten. Sie gilt laut Fachpresse als besonders versiert im Umgang mit komplexen technischen Fragestellungen vor EPA und UPC.
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