Verfahren zur Fotolackentfernung mittels Gas-Plasma

EP1192506 Art B1 30. Mai 2012

Anmelder: ADVANCED MICRO DEVICES, INC., ADVANCED MICRO DEVICES INC. 🇺🇸

Details

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

🇺🇸 Advanced Micro Devices

US-amerikanischer Halbleiterhersteller (AMD) mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien, bekannt für Prozessoren, Grafikchips und Server-CPUs.

1.708 Patente in unserer Datenbank

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von

Sanders, Peter Colin Christopher (GB) London, Großbritannien

Patente gesamt

Fachgebiete

Anmelder-Länder

Schwerpunkte

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung Nachrichtentechnik & Telekommunikation Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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