Spül-, Schleuder-, Trocknungsstation mit einer Verstellbaren Düsenanordnung zum Spülen von Halbleiterwaferrückseiten
EP1192642
Art A1
3. April 2002
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1192642
- Aktenzeichen
- EP00943288
- Anmeldetag
- 28. Juni 2000
- Veröffentlichung
- 3. April 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Thomson, Paul Anthony
Birkenhead, Großbritannien
795
Patente gesamt
31
Fachgebiete
14
Anmelder-Länder
Schwerpunkte