Vorrichtung zum Verringern von Teilchen-Rückständen in einer Halbleiter-Prozesskammer
EP1193326
Art A3
14. Januar 2004
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1193326
- Aktenzeichen
- EP01119258
- Anmeldetag
- 9. August 2001
- Veröffentlichung
- 14. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/44H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Kirschner, Klaus Dieter
München, Deutschland
863
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