Verfahren zur Herstellung von Siliziumeinkristallen
EP1193332
Art B1
22. April 2009
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1193332
- Aktenzeichen
- EP01906146
- Anmeldetag
- 21. Februar 2001
- Veröffentlichung
- 22. April 2009
- Erteilung
- 22. April 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/06C30B15/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Cooper, John
Glasgow, Großbritannien
821
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