Auf Fluor Basierende Plasmaätzmethode für das Anisotrope Ätzen von Siliziumsubstraten mit Grosser Offener Oberfläche
EP1194952
Art A2
10. April 2002
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1194952
- Aktenzeichen
- EP00984407
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2000
- Veröffentlichung
- 10. April 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/311
Abstract
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Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
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