Verfahren zur Erzeugung eines Polyimid-Musters unter Verwendung eines Lichtempfindlichen Polyimids und Zusammensetzung zum Gebrauch dafür
EP1199604
Art B1
21. Mai 2014
Anmelder: PI R & D Co., Ltd., National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1199604
- Aktenzeichen
- EP00935501
- Anmeldetag
- 31. Mai 2000
- Veröffentlichung
- 21. Mai 2014
- Erteilung
- 21. Mai 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/037C08G73/10C08L79/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- PI R & D Co., Ltd.
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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Vertreten von
Stuart, Ian Alexander
London, Großbritannien
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