Verfahren zur Erzeugung eines Polyimid-Musters unter Verwendung eines Lichtempfindlichen Polyimids und Zusammensetzung zum Gebrauch dafür

EP1199604 Art B1 21. Mai 2014

Anmelder: PI R & D Co., Ltd., National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1199604
Aktenzeichen
EP00935501
Anmeldetag
31. Mai 2000
Veröffentlichung
21. Mai 2014
Erteilung
21. Mai 2014
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/037C08G73/10C08L79/08
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
PI R & D Co., Ltd.
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

3.785 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen