Vorrichtung und Verfahren zur Implantierung eines Substrats mit Gleichmässiger Dosis
EP1204986
Art A1
15. Mai 2002
Anmelder: Axcelis Technologies, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1204986
- Aktenzeichen
- EP00949793
- Anmeldetag
- 3. August 2000
- Veröffentlichung
- 15. Mai 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Axcelis Technologies, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Axcelis Technologies
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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Burke, Steven David
London, Großbritannien
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