Lichtempfindliches Element, Lichtempfindliches Rollenelement, Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters unter Verwendung Desselben, Resistmuster, Substrat mit Resistmusterüberzug, Verfahren zur Herstellung eines Leitermusters, und Leitermuster

EP1205802 Art A1 15. Mai 2002

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1205802
Aktenzeichen: EP00939104
Anmeldetag: 21. Juni 2000
Veröffentlichung: 15. Mai 2002
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/033H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von