Synthetisches Quarzglasselement, Photolithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung des Photolithographischen Apparates.

EP1207141 Art A1 22. Mai 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1207141
Aktenzeichen: EP01917545
Anmeldetag: 28. März 2001
Veröffentlichung: 22. Mai 2002
Rechtsraum: EP
IPC: C03C3/06H01L21/027G03F7/20G02B1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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