Plasma-Cvd-Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Mikrokristallinen Si:h-Schicht

EP1208245 Art B1 19. Februar 2003

Anmelder: Schott Glas 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1208245
Aktenzeichen: EP00954559
Anmeldetag: 25. Juli 2000
Veröffentlichung: 19. Februar 2003
Erteilung: 19. Februar 2003
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/56C23C16/24C23C16/515H01L31/04H01L21/205H01L31/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Schott Glas
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Schott Glas

Schott Glas ist ein deutscher Spezialglashersteller mit Sitz in Mainz, bekannt für Glaskeramik, optisches Glas und Pharmaverpackungen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf anorganische Chemie und Werkstoffe sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Halbleiterbauelemente und Metallurgie. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2008.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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