Methode und System zur Selektiven Optimilisierung der Linienbreite in einem Lithographischen Verfahren
EP1210652
Art A2
5. Juni 2002
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1210652
- Aktenzeichen
- EP01935527
- Anmeldetag
- 16. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 5. Juni 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Silicon Valley Group, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
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Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München