Herstellungsverfahren für ein Halbleiterbauelement unter Benutzung eines Dummy-Gates
EP1211716
Art B1
13. Februar 2008
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha, SHARP KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1211716
- Aktenzeichen
- EP01127063
- Anmeldetag
- 14. November 2001
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2008
- Erteilung
- 13. Februar 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/28H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Sharp Kabushiki Kaisha
SHARP KABUSHIKI KAISHA - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
22.800 Patente in unserer Datenbank