Chemisch-Mechanische Polierverfahren eines Substrats

EP1211717 Art B1 13. April 2016

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1211717
Aktenzeichen
EP00953466
Anmeldetag
17. August 2000
Veröffentlichung
13. April 2016
Erteilung
13. April 2016
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/321H01L21/768C09G1/02C09K3/14C23F3/06
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Hitachi Chemical Company, Ltd.
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen