System zur Messung der Elektronendichte und Plasma-Prozesssteuerung, das Änderungen in der Resonanzfrequenz eines Plasma Enthaltenden Offen Resonators Verwendet
EP1212611
Art B1
11. Juli 2007
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1212611
- Aktenzeichen
- EP00975171
- Anmeldetag
- 20. Juli 2000
- Veröffentlichung
- 11. Juli 2007
- Erteilung
- 11. Juli 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N27/62H01J37/32H05H1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München