Gepulstes Plasmabehandlungsverfahren und Vorrichtung

EP1214459 Art B1 7. Januar 2009

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1214459
Aktenzeichen: EP00952656
Anmeldetag: 9. August 2000
Veröffentlichung: 7. Januar 2009
Erteilung: 7. Januar 2009
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32// H01L21/311

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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