Verfahren und Vorrichtung für die In-Situ-Messung von Plasma-Ätz-Prozessen und Plasma-Abscheidungs-Prozessen mit Hilfe einer Breitbandigen Gepulsten Lichtquelle
EP1218689
Art B1
23. November 2005
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION, LAM Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1218689
- Aktenzeichen
- EP00965488
- Anmeldetag
- 27. September 2000
- Veröffentlichung
- 23. November 2005
- Erteilung
- 23. November 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01B11/06H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- LAM RESEARCH CORPORATION
LAM Research Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
2.725 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Thomson, Paul Anthony
Birkenhead, Großbritannien
795
Patente gesamt
31
Fachgebiete
14
Anmelder-Länder
Schwerpunkte