Elektronendichtemessungs- und Regelungssystem unter Anwendung von Plasmainduzierten Frequenzveränderungen eines Mikrowellenoszillators
EP1218763
Art A1
3. Juli 2002
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1218763
- Aktenzeichen
- EP00947493
- Anmeldetag
- 20. Juli 2000
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01R27/04G01R19/00H01J37/32H05H1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München