Lithographische Abbildung und Druck mit Ultrahoher Auflösung und Defektreduktion durch Belichtung Nahe den Kritischen Konditionen
EP1218800
Art A2
3. Juli 2002
Anmelder: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1218800
- Aktenzeichen
- EP00919248
- Anmeldetag
- 7. März 2000
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
National University of Singapore
Staatliche Universität in Singapur, eine der größten und international bestbewerteten Hochschulen Asiens. Sie ist in Forschung und Lehre breit aufgestellt, mit starken Ingenieur- und Naturwissenschaftsfakultäten.
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Vertreten von
Tongbhoyai, Martin
Köln, Deutschland
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Patente gesamt
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Fachgebiete
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