Abriebsbeständiges Siliziumnitridbauteil und Verfahren zur Herstellung des Bauteils
EP1223150
Art B1
7. März 2007
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1223150
- Aktenzeichen
- EP02000223
- Anmeldetag
- 11. Januar 2002
- Veröffentlichung
- 7. März 2007
- Erteilung
- 7. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C04B35/587C04B35/593F16C33/04F16C33/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München