Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1225482
Art A1
24. Juli 2002
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1225482
- Aktenzeichen
- EP02250326
- Anmeldetag
- 17. Januar 2002
- Veröffentlichung
- 24. Juli 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Maas, Abraham Johannes
Veldhoven, Niederlande
118
Patente gesamt
10
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon