Herstellungsverfahren von integriertem Halbleiterschaltkreisbauelement mit Halbleiterfestwertspeicherbauelementen

EP1227519 Art A3 27. August 2003

Anmelder: Seiko Epson Corporation, Halo LSI Design & Device Technology, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1227519
Aktenzeichen
EP02002106
Anmeldetag
28. Januar 2002
Veröffentlichung
27. August 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01L27/115H01L21/8247H01L29/792H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Seiko Epson Corporation
Halo LSI Design & Device Technology, Inc.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Epson

Japanisches Unternehmen, das Drucker, Scanner, Projektoren sowie Uhrwerke und Sensortechnik entwickelt und herstellt.

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