Methode zur Korrektur einer Photomaske, sowie Methode zur Herstellung eines Halbleiterelements

EP1229385 Art B1 29. September 2004

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1229385
Aktenzeichen: EP02001992
Anmeldetag: 5. Februar 2002
Veröffentlichung: 29. September 2004
Erteilung: 29. September 2004
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kabushiki Kaisha Toshiba
DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.647 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von