Lichtempfindliche Zusammensetzung, sowie ein Entsprechendes Lichtempfindliches Element; Verfahren zur Erzeugung eines Resistmusters; ein Resistmuster, sowie ein Substrat auf das das Muster Auflaminiert Ist.

EP1229389 Art A1 7. August 2002

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1229389
Aktenzeichen: EP00969991
Anmeldetag: 23. Oktober 2000
Veröffentlichung: 7. August 2002
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004C08L61/34C08L61/28C08L101/12G03F7/038G03F7/027C08K5/00C08K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

2.257 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von