Verfahren zur schnellen CVD von Kupferschichten
EP1231293
Art A3
28. Januar 2004
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1231293
- Aktenzeichen
- EP02250926
- Anmeldetag
- 11. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 28. Januar 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
19.779 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Jacob, Reuben Ellis
London, Großbritannien
1.272
Patente gesamt
34
Fachgebiete
35
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
West, Alan Harry
NoneLondon