Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Messung von Wellenfront-Aberrationen
EP1231517
Art A1
14. August 2002
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1231517
- Aktenzeichen
- EP02250967
- Anmeldetag
- 12. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 14. August 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01M11/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
1.949 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon