Plasmafokusierende Lichtquelle mit Verbesserter Leistungspulsanordnung
EP1232517
Art A1
21. August 2002
Anmelder: Cymer, Inc., Birx, Deborah E.F. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1232517
- Aktenzeichen
- EP00976672
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2000
- Veröffentlichung
- 21. August 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J35/20H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Cymer, Inc.
Birx, Deborah E.F. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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