Poröser Silikatischer Film mit Niedriger Durchlässigkeit, Halbleiterelement mit Solchem Film, und Beschichtungszusammensetzung den Film Bildend

EP1232998 Art B1 6. Oktober 2004

Anmelder: Clariant International Ltd., Tonen General Sekiyu K.K. 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1232998
Aktenzeichen
EP00937325
Anmeldetag
20. Juni 2000
Veröffentlichung
6. Oktober 2004
Erteilung
6. Oktober 2004
Rechtsraum
EP
IPC
C09D183/16H01L21/312C01B33/12
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Clariant International Ltd.
Tonen General Sekiyu K.K.
Land
🇨🇭 Schweiz
🇨🇭 Clariant

Clariant ist ein Schweizer Spezialchemiekonzern mit Sitz in Muttenz, der Additive, Katalysatoren und Wirkstoffe für Industrie, Konsumgüter und Energieanwendungen herstellt.

1.816 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen