Verfahren und Vorrichtung zur Optimierung der Ausgangsstrahlungscharakteristiken eines Lasers
EP1235314
Art A3
2. Februar 2005
Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1235314
- Aktenzeichen
- EP02003837
- Anmeldetag
- 20. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 2. Februar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01S3/08G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Silicon Valley Group, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München