Lithographisches Gerät mit Doppelisoliersystem und Verfahren zur Konfigurierung desselben

EP1237044 Art B1 29. August 2007

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1237044
Aktenzeichen: EP02004557
Anmeldetag: 27. Februar 2002
Veröffentlichung: 29. August 2007
Erteilung: 29. August 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Silicon Valley Group, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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