Nitril/fluoroalkohol-Polymer Enthaltende Photoresiste und die damit Verbundenen Verfahren für die Mikrolithographie
EP1240554
Art A2
18. September 2002
Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company, E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1240554
- Aktenzeichen
- EP00978579
- Anmeldetag
- 14. November 2000
- Veröffentlichung
- 18. September 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/038C08F216/02C08F216/04C08F220/42C08F220/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- E. I. du Pont de Nemours and Company
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
DuPont
US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.
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Towler, Philip Dean
London, Großbritannien
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