Bilderzeugungsverfahren mit Phasensprungstrukturen und Modifizierter Belichtung
EP1240557
Art A1
18. September 2002
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1240557
- Aktenzeichen
- EP00978666
- Anmeldetag
- 15. November 2000
- Veröffentlichung
- 18. September 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00G03C5/00G03B27/42G03B27/54G03B27/32G21G5/00G02B27/12G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.359 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon