Retrograd Dotierter Subkollektor und Verfahren zur Herstellung

EP1240671 Art A1 18. September 2002

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1240671
Aktenzeichen: EP00985076
Anmeldetag: 21. November 2000
Veröffentlichung: 18. September 2002
Rechtsraum: EP
IPC: H01L29/737H01L29/732

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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