Maskenrohling, Fotomaske und Verfahren zu deren Herstellung
EP1241524
Art B1
30. Mai 2012
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1241524
- Aktenzeichen
- EP02250981
- Anmeldetag
- 13. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2012
- Erteilung
- 30. Mai 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/80G03F1/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Vertreten von
Stoner, Gerard Patrick
London, Großbritannien
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