Verfahren und Vorrichtung zur Gasrückführungsflussregelung zur Verwendung im Vakuumsystem für die Halbleiterherstellung
EP1243667
Art A3
2. Oktober 2002
Anmelder: EBARA CORPORATION, Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1243667
- Aktenzeichen
- EP02006584
- Anmeldetag
- 21. März 2002
- Veröffentlichung
- 2. Oktober 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C16/50H01L21/00C23C16/455C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- EBARA CORPORATION
Kabushiki Kaisha Toshiba - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ebara
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
1.514 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
13.642 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Wagner, Karl H
München, Deutschland
2.990
Patente gesamt
33
Fachgebiete
17
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Wagner, Karl H., Dipl.-Ing
NoneMünchen