Polysiloxanharz und Verfahren zur Herstellung einer Zwischenschicht daraus für Wafer
EP1245642
Art B1
8. Juni 2005
Anmelder: Samsung Electronics Co., Ltd., SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1245642
- Aktenzeichen
- EP02251958
- Anmeldetag
- 19. März 2002
- Veröffentlichung
- 8. Juni 2005
- Erteilung
- 8. Juni 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C08L83/04C08J9/26H01B3/46H01L21/316H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Samsung Electronics Co., Ltd.
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Samsung Electronics
Südkoreanischer Elektronikkonzern und Teil der Samsung-Gruppe. Entwickelt und produziert Halbleiter, Speicherchips, Displays, Smartphones, Unterhaltungselektronik sowie Haushaltsgeräte für den globalen Markt.
25.043 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kyle, Diana
Sevenoaks, Großbritannien
623
Patente gesamt
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Fachgebiete
9
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Schwerpunkte