Atomschichten-Cvd von Sliziumdioxid-Enthaltendenfilmen

EP1248865 Art B1 5. Oktober 2016

Anmelder: ASM INTERNATIONAL N.V., ASM Microchemistry Oy 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1248865
Aktenzeichen
EP00987492
Anmeldetag
4. Dezember 2000
Veröffentlichung
5. Oktober 2016
Erteilung
5. Oktober 2016
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/316C23C16/40C23C16/44C30B25/02C23C16/455H01L21/02C30B29/16
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ASM INTERNATIONAL N.V.
ASM Microchemistry Oy
Land
🇳🇱 Niederlande
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