Plasma-Dotierungs-System Beinhaltend eine Hohlkathode
EP1249032
Art A1
16. Oktober 2002
Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1249032
- Aktenzeichen
- EP00966770
- Anmeldetag
- 20. September 2000
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C16/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.
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Vertreten von
Beck, Simon Antony
London, Großbritannien
871
Patente gesamt
31
Fachgebiete
19
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Schwerpunkte