Belichtungsverfahren zur Erzeugung eines Musters für IC-Chips auf einem Retikel unter Verwendung von Originalmasken
EP1249733
Art A3
9. Februar 2005
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1249733
- Aktenzeichen
- EP02007382
- Anmeldetag
- 9. April 2002
- Veröffentlichung
- 9. Februar 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba
DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
13.647 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
3.002 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München