Belichtungsverfahren zur Erzeugung eines Musters für IC-Chips auf einem Retikel unter Verwendung von Originalmasken

EP1249733 Art A3 9. Februar 2005

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1249733
Aktenzeichen
EP02007382
Anmeldetag
9. April 2002
Veröffentlichung
9. Februar 2005
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Kabushiki Kaisha Toshiba
DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.647 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

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