Vorrichtung zur Schnellen und Gleichmässigen Heizung eines Halbleitersubstrats durch Infrarotstrahlung

EP1250711 Art B1 16. April 2008

Anmelder: Qualiflow-Therm, Joint Industrial Processors for Electronics 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1250711
Aktenzeichen
EP01976424
Anmeldetag
12. Oktober 2001
Veröffentlichung
16. April 2008
Erteilung
16. April 2008
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Qualiflow-Therm
Joint Industrial Processors for Electronics
Land
🇫🇷 Frankreich

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Vertreten von
Hecké, Gérard Grenoble, Frankreich
573
Patente gesamt
30
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Fahrzeugtechnik (Automobil, Bahn & Schiff) Sport, Freizeit & Sicherheitstechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik Haushalts-, Möbel- & Konsumgüter
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