Resistmaterial für die 157 Nm-Lithographie
EP1257880
Art A2
20. November 2002
Anmelder: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1257880
- Aktenzeichen
- EP01911149
- Anmeldetag
- 26. Februar 2001
- Veröffentlichung
- 20. November 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Massachusetts Institute of Technology
US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.
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Vertreten von
Kirkham, Nicholas Andrew
Sevenoaks, Großbritannien
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