Prozessüberwachungssystem für Lithographielaser
EP1257924
Art A1
20. November 2002
Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1257924
- Aktenzeichen
- EP01910429
- Anmeldetag
- 5. Februar 2001
- Veröffentlichung
- 20. November 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G06F15/00H01S3/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cymer, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
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