Methode zur Herstellung eines Reflektors, Reflektor und Phasenverschiebungsmaske sowie Lithographiegerät
EP1260861
Art A1
27. November 2002
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Technische Universiteit Delft, TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1260861
- Aktenzeichen
- EP01304452
- Anmeldetag
- 21. Mai 2001
- Veröffentlichung
- 27. November 2002
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/00G03F1/14G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Technische Universiteit Delft
TECHNISCHE UNIVERSITEIT DELFT - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
Technische Universiteit Delft
Niederländische Technische Universität in Delft mit breiter Forschung in Ingenieurwissenschaften und angewandter Technik.
569 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte