Lithographisches Gerät, Methoden zur Herstellung von Bauelementen, Methode zur Herstellung eines Reflektors sowie eine Phasenschiebermaske
EP1260862
Art B1
11. April 2012
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1260862
- Aktenzeichen
- EP02253475
- Anmeldetag
- 17. Mai 2002
- Veröffentlichung
- 11. April 2012
- Erteilung
- 11. April 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon