Elektronenstrahleinrichtung und Diese Verwendendes Halbleiterbausteinherstellungsverfahren

EP1261016 Art A1 27. November 2002

Anmelder: EBARA CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1261016
Aktenzeichen
EP01980965
Anmeldetag
2. November 2001
Veröffentlichung
27. November 2002
Rechtsraum
EP
IPC
H01J37/063H01J37/29H01L21/027H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
EBARA CORPORATION
Nikon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Ebara

Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.

373 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

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