Verfahren zur Temperaturreglung eines Substrats

EP1264003 Art A1 11. Dezember 2002

Anmelder: ASML Holding N.V., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1264003
Aktenzeichen
EP01911174
Anmeldetag
26. Februar 2001
Veröffentlichung
11. Dezember 2002
Rechtsraum
EP
IPC
C23C16/46H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ASML Holding N.V.
Silicon Valley Group, Inc.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen